酸化ガリウム(Ga2O3)は、ガリウム(Ga)と酸素(O)の化学量論比2:3の化合物です。
結晶は右記にします単斜晶系の構造となっています。

項目
| 値 |
融点 | 1725℃
|
比重 | 5.95×103kg/m3 |
ビッカース硬度
| (101):9.7GPa (-201):12.5GPa
|
ヤング率
| 230GPa
|
熱伝導度
| [100]:13.6W/m・K [010]:22.8W/m・K
|
比熱
| 0.49×103J/kg・K
|
屈折率
| 1.97
|
物質としての特性は、
・大きなバンドギャップ:4.8~4.9V
・広範囲に渡りn型キャリア濃度の制御が可能
・大気圧下での高速融液成長が可能です。
当社は融液成長法である“EFG法(Edge-defined Film-fed Growth method)”を用いて単結晶酸化ガリウム基板の製造を行っています。
アプリケーション
1) 可視光/紫外LED用基板
本基板の“透明で導電性”である特徴を活かし、LED縦型構造にすることができます。
2) パワー半導体用基板
大きなバンドギャップを活かした高耐圧・低損失なデバイス特性にすることが可能です。
3) 深紫外センサー
光学フィルタが不要な深紫外の検出が可能となります。
など
製品
・酸化ガリウム ベア基板
仕様書:pdf
学会・展示会情報
問い合わせ先
現在、酸化ガリウム基板の製造および販売は下記にて行っております。
株式会社ノベルクリスタルテクノロジー